抗生物質リネゾリド原料薬フィルター洗浄乾燥3in1

リネゾリドの製造における困難点の一つは、その構造におけるオキサゾロンの五員環の構築である。既存の製造方法には以下の問題がある。

（１）高沸点アルコール溶媒プロセスを使用する場合、このタイプの溶媒を蒸発させるために必要なエネルギー消費量が大きく、蒸発速度が遅く、調製された結晶形は凝集しており、外観と純度が悪い。

（2）高温水中懸濁結晶化法を採用する。リネゾリドの水への溶解度は温度によって大きく変化するため、高温では溶解度が高く、低温では溶解度が低く、冷却過程でより安定な結晶形が析出する。結晶形Iは低温で比較的速く結晶形IIに変化するため、この方法によるリネゾリド結晶形Iの製造工程は不安定であり、結晶形の純度は高くない。

リネゾリド分野では、高純度で結晶構造が安定し、操作が容易なリネゾリド結晶I型の製造方法が緊急に求められています。無錫張華が開発したオキサゾリジノン系抗生物質原料薬は、既存の技術方法と比較して、試薬の入手が容易、反応条件が穏やか、環境に優しい、収率と純度が高いなどの利点があります。

オキサゾリジノン系抗生物質原料の平板ろ過、洗浄、乾燥の3in1プロセスフロー

（１）粗リネゾリドの不純物除去

3 in 1 プレート フィルター、洗浄、乾燥システムでは、粗リネゾリドを特定の溶媒と混合し、濾過して濾液を収集します。粗リネゾリドを溶媒と混合した後、85 ~ 105°C で粗生成物が溶解するまで撹拌し、その後、熱いうちに濾過して濾液を収集します。

（２）精製後のリネゾリド溶媒の結晶化

（１）で得られた濾液に第２溶媒を加え、リネゾリド結晶形Ｉの種晶を添加し、８５〜１０５℃で結晶化処理を行う。２）低温で５〜３０分間結晶を成長させ、その後、ゆっくりと温度を０〜１０℃まで下げ、０．５〜３時間撹拌を継続して結晶を析出させる。

（３）高純度リネゾリド結晶の調製

沈殿した結晶は、3 in 1 プレートろ過、洗浄、乾燥のプロセスで分離され、リネゾリドの結晶形 I が得られました。

プロセスの簡素化から始まり、ろ過、洗浄、乾燥の3つのプロセスが1台のマシンで完了することで、プロセス転送の回数が削減されます。自動化、洗浄性、滅菌から始まり、プロセス全体が滅菌APIの製造により適したものになるように改善されます。

オキサゾリジノン系抗生物質原料を3in1プレートろ過、洗浄、乾燥の工程で製造した高純度リネゾリド結晶は、結晶形状が緻密で、流動性が良好で、静電気が少なく、加工性に優れています。無錫張華の3in1設備は、既存工程の問題を解決し、製品の流動性や静電気といった品質不良の問題を解決し、幅広い市場への応用が期待されています。

オキサゾリジノン系抗生物質原料を3in1プレートろ過、洗浄、乾燥の工程で製造した高純度リネゾリド結晶は、結晶形状が緻密で、流動性が良好で、静電気が少なく、加工性に優れています。無錫張華の3in1設備は、既存工程の問題を解決し、製品の流動性や静電気といった品質不良の問題を解決し、幅広い市場への応用が期待されています。