真空乾燥機とレーキ乾燥機の用途と特徴

真空乾燥機は、材料溶媒の沸点が空の状態で低下することを意味するため、不安定または熱に敏感な材料の乾燥に適しています。真空乾燥機は密閉性が高いため、溶媒を回収する必要があり、強い刺激性および有毒ガスを含む材料の乾燥にも適しています。真空乾燥機には、乾燥温度が低い、乾燥室内の酸素が比較的少ない、脂肪の酸化や色素の褐色化を避けるなど、一連の利点があります。熱に敏感な食品材料の乾燥に適しています。さらに、設備費と乾燥費が比較的低いです。真空乾燥は食品の乾燥において重要な役割を果たしています。真空乾燥機をマイクロ波加熱技術または他の乾燥方法と組み合わせることで、多くの新しい真空乾燥装置が登場し、真空乾燥に新たな意味合いと活力を与えています。

真空マイクロ波乾燥は、マイクロ波加熱と真空乾燥の両方の利点を兼ね備えており、将来有望な乾燥技術です。我が国では、真空マイクロ波乾燥装置の研究開発を加速させることをお勧めします。

レーキ乾燥機は、大面積層間加熱方式を採用しており、伝熱面積が広く、熱効率が高いです。機械は攪拌機能を備えており、シリンダー内で材料を連続循環状態にすることで、材料の加熱均一性をさらに向上させます。

レーキドライヤーは撹拌運転を前提としており、スラリー、ペースト、ペースト状の材料をスムーズに乾燥させることができます。レーキドライヤーは、上海化学設備研究所の技術導入に基づいて改良された新型水平真空乾燥装置です。湿潤材料は伝導蒸発し、高温表面の材料はスクレーパー撹拌機によって連続的に除去されます。容器内の運動によって循環流が形成され、蒸発した水分は真空ポンプによって排出されます。レーキドライヤーの用途：医薬、食品、化学工業などの業界における以下の材料の乾燥。スラリー、ペースト、粉末材料に適しています。

低温乾燥を必要とする熱に弱い物質、酸化しやすい物質、爆発性、刺激性が強く、のこぎり毒の物質、有機溶剤の回収を必要とする物質。